创维半导体设计大厦

创维半导体设计大厦为深圳特区成立30周年十大产业项目之一，于2010年8月24日奠基。 大厦位于深圳市高新技术园南区核心区域，占地面积17025.5平方米，总建设面积124533.62平方米，计容建筑面积为84931.04平方米，建筑楼高99.8米，长171米；其中东、西座地上24层，地下3层；裙楼连接东、西两座塔楼，地上5层，地下3层；办公标准楼层柱距为8.4米。